Dispositivo de plasma capilar sumergible.

Un dispositivo de plasma capilar sumergible (100) que comprende:



una unidad de fuente de alimentación (102) configurada para suministrar

una fuente de alimentación;

un electrodo de descarga (104) configurado para recibir, durante el uso, la fuente de alimentación suministrada desde la unidad de fuente de alimentación (102) e inducir la descarga de plasma capilar dentro de un fluido (112); y una unidad de suministro de gas (106) configurada para inyectar un gas auxiliar en el fluido (112) en el que tiene lugar la descarga de plasma capilar, durante el uso, por medio del electrodo de descarga (104),

en el que el electrodo de descarga (104) comprende:

una punta metálica (400) conectada eléctricamente a un terminal de salida de la unidad de fuente de alimentación (102); y

un tubo dieléctrico de forma cilíndrica (402) dispuesto para rodear la punta metálica (400) y sobresalir de un extremo de la punta metálica (400) en una cierta longitud (d),

caracterizado porque

se forma un extremo (406) del tubo dieléctrico (402) que entra en contacto con el fluido (112) de manera que el extremo del tubo dieléctrico (402) está inclinado en una dirección que se extiende desde una superficie circunferencial interna a una superficie circunferencial externa de un cilindro que constituye el tubo dieléctrico (402) de tal forma que, durante el uso, se reduce el desgaste del tubo dieléctrico (402) por el plasma.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/KR2012/004073.

Solicitante: Korea Basic Science Institute.

Nacionalidad solicitante: República de Corea.

Dirección: 169-148 Eoeun-dong Gwahak-ro Yuseong-gu Daejeon 305-806 REPUBLICA DE COREA.

Inventor/es: LEE,SANG JU, HONG,YONG CHEOL, KIM,YE JIN, LEE,BONG JU.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C02F1/46 QUIMICA; METALURGIA.C02 TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS.C02F TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS (procedimientos para transformar las sustancias químicas nocivas en inocuas o menos perjudiciales, efectuando un cambio químico en las sustancias A62D 3/00; separación, tanques de sedimentación o dispositivos de filtro  B01D; disposiciones relativas a las instalaciones para el tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla en los buques, p. ej. para producir agua dulce, B63J; adición al agua de sustancias para impedir la corrosión C23F; tratamiento de líquidos contaminados por radiactividad G21F 9/04). › C02F 1/00 Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla (C02F 3/00 - C02F 9/00 tienen prioridad). › por procesos electroquímicos.
  • C02F1/467 C02F 1/00 […] › por desinfección electroquímica.
  • C02F1/72 C02F 1/00 […] › por oxidación.
  • H05H1/24 ELECTRICIDAD.H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26). › H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00). › Producción del plasma.
  • H05H1/46 H05H 1/00 […] › utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/26 tiene prioridad).
  • H05H1/48 H05H 1/00 […] › utilizando un arco (H05H 1/26 tiene prioridad).

PDF original: ES-2765052_T3.pdf

 

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