BAÑO DE ELECTRODEPOSICION ACIDO Y METODO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE DEPOSITOS DE NIQUEL SATINADOS.
Un baño de electrodeposición ácido para la deposición electrolítica de depósitos de níquel satinado que contiene por lo menos un compuesto de amonio cuaternario y por lo menos un poliéter,
teniendo el por lo menos un poliéter la fórmula química general siguiente (I): ** ver fórmula** en donde R1 y R1'' son independientemente hidrógeno o metilo y pueden seleccionarse independientemente en cada unidad [(CH2CHR1O)]a-CHR1'' -CH3, R 3 es hidrógeno o un alquilo C1-C18 de cadena lineal o ramificada, a es un número entero de 1 a 500 Z es una agrupación elegida del grupo que comprende un enlace simple, CH2, O, NR 4 , SO2, S, NR 4 SO2, COO, CO y NR 4 CO, en donde R 4 es hidrógeno o un grupo de alquilo C 1 a C 18 de cadena lineal o ramificada, R 2 es una fracción elegida del grupo que comprende ** ver fórmula** en donde las cadenas de los grupos que tienen las fórmulas (II) y (III) pueden ser lineales o ramificadas; X es un enlace simple u O; n y m son números enteros de 0 a 12, en donde n+m es por lo menos 1; o es 0 o 1; R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 y R 11 se eligen independientemente y son cada uno una fracción elegida del grupo que comprende hidrógeno, un alquilo de C 1 a C 19 de cadena lineal o ramificada y fenilo sustituido o no sustituido; y en lugar de un átomo de hidrógeno la cadena lateral hidrofóbica -Z-R2 se enlaza a un átomo de carbono de la unidad (CH2CHR1O) en el poliéter o a un átomo de carbono del grupo final -CHR1'' CH3.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: ERASMUSSTRASSE 20,10553 BERLIN.
Inventor/es: MORITZ, THOMAS, DAHMS, WOLFGANG, SCHULZ, KLAUS-DIETER.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 1 de Julio de 2009.
Clasificación PCT:
- C25D3/12 QUIMICA; METALURGIA. › C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS. › C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › de níquel o cobalto.
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